“최악은 면했다”…연간 허가로 숨 돌린 삼성·SK하이닉스 中공장

개별 허가서 연간 단위 관리 방식 전환
높아진 운영 예측 가능성…"최악의 국면 피해"
기술 고도화 위한 장비 반출 불허는 여전

삼성전자 중국 시안 반도체공장./삼성전자

삼성전자와 SK하이닉스가 중국 반도체 공장 운영을 위해 장비를 반입할 때마다 미국 정부의 개별 허가를 받아야 할 뻔했던 상황을 피하게 됐다. 미국이 양사 중국 공장에 부여했던 포괄적 허가를 철회하는 대신, 장비 반입을 연간 단위로 승인하는 방식으로 규제 기조를 조정한 데 따른 것이다.

30일 업계에 따르면 미국 상무부 산업안보국(BIS)은 한국 반도체 기업의 중국 공장에 적용해온 '검증된 최종 사용자(VEU)' 지위를 취소하는 대신, 매년 필요한 장비와 부품의 반출 물량을 사전 심사해 승인하는 방식으로 방침을 변경했다. VEU는 일정한 보안 요건만 충족하면 별도의 허가 절차나 기간 제한 없이 미국산 반도체 장비를 공급받을 수 있도록 한 예외적 제도다.

삼성전자의 중국 시안 낸드 공장과 SK하이닉스의 우시 D램 공장, 다롄 낸드 공장은 미국 정부가 부여한 '검증된 최종 사용자(VEU)' 지위를 바탕으로 미국산 반도체 장비를 비교적 자유롭게 반입해왔다. 그러나 지난 8월 BIS가 이들 공장을 VEU 명단에서 제외하겠다고 밝히면서 중국 공장이 장비를 들여올 때마다 개별 허가를 받아야 하는 상황으로 전환될 수 있다는 우려가 제기돼 왔다.

특히 반도체 공장은 장비 설치 이후에도 유지·보수와 부품 교체가 상시적으로 이뤄지는 구조다. 개별 허가 체계가 적용될 경우 허가 지연이나 불허가 반복으로 공정 안정성이 흔들리고 생산 차질이 연쇄적으로 발생할 가능성이 높다. 여기에 미 정부는 VEU 지위가 완전히 제외될 경우 연간 허가 신청 건수가 1000건에 달할 것으로 추산한 바 있다. 다만 규제 시행을 앞둔 유예 기간 동안 미 정부가 연간 허가 제도를 도입하기로 하면서 장비 반입과 관련한 불확실성은 일정 부분 완화됐다는 평가가 나온다.

SK하이닉스 중국 우시 공장./SK하이닉스

미 정부는 규제 시행을 앞두고 방침을 일부 조정해 매년 필요한 장비와 부품의 종류·수량을 사전에 제출받아 이를 일괄 심사하는 연간 허가 체계를 도입했다. 포괄적 예외였던 VEU와 비교하면 절차는 한층 까다로워졌지만 장비 반입 때마다 개별 승인을 받아야 하는 방식과 비교하면 운영 예측 가능성은 크게 높아졌다는 평가다.

업계 관계자는 "개별 장비마다 허가를 받아야 하는 구조와 비교하면 연간 허가 체계로 전환된 것은 최악의 국면은 피한 것"이라며 "건별 허가 시에는 불확실성이 지나치게 컸지만, 최소 1년 단위의 가시성이 확보됐다는 점에서 숨통이 트였다는 분위기"라고 말했다. 또 다른 관계자는 "미국의 대중 반도체 통제 기조가 유지되는 만큼 불확실성은 계속 이어지고 있어, 기업들도 정책 변화 가능성을 염두에 두고 대응 전략을 조정해 나갈 것"이라고 설명했다.

다만 이번 조치가 중국 공장의 확장이나 공정 업그레이드를 허용하는 것은 아니다. 미 정부는 연간 허가를 부여하더라도 중국 내 생산시설의 증설이나 기술 고도화를 위한 장비 반출은 불허한다는 기존 방침은 유지한 것으로 전해졌다.